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鋅鎳合金電鍍
- 鋅鎳合金電鍍|鋅鎳合金|電鍍
- 鍍層鎳含量可穩(wěn)定地控制。沉積速度快。低電流密度光亮區(qū)范圍寬,可用于形狀較復(fù)雜的零部件的掛鍍,也可用于滾鍍。
一、性能特點(diǎn):
1. 鍍層鎳含量可穩(wěn)定地控制。
2. 沉積速度快。
3. 低電流密度光亮區(qū)范圍寬,可用于形狀較復(fù)雜的零部件的掛鍍,也可用于滾鍍。
4. 鍍液具有良好的整平性能,鍍層呈銀白色高光亮。
5. 耐蝕性較電鍍鋅高5倍以上。
二、工藝參數(shù):
|
成分及操作條件 |
含 量 |
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氯化鋅(ZnCl2) |
50– |
|
氯化鎳(NiCl2·6H2O) |
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氯化銨(NH4Cl) |
220– |
|
三乙醇胺(三乙醇胺含量80–85%) |
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氨水(用于調(diào)節(jié)pH) |
適量 |
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添加劑A |
50 ml/L |
|
添加劑B |
10 ml/L |
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溫度 |
35– |
|
pH值 |
5.35–5.60 |
|
陰極電流密度DK(用于掛鍍) |
2– |
|
鎳陽(yáng)極面積/鋅陽(yáng)極面積 |
1∶2.0–2.5 |
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鋅/鎳含量比 |
0.7–0.9 |
|
攪拌方式 |
陰極移動(dòng) |
|
過(guò)濾 |
連續(xù)或間歇過(guò)濾 |
三、配制方法
1. 先往電鍍槽加入1/2體積的水,加熱至50–
2. 待所有組分全部溶解后,用過(guò)濾機(jī)過(guò)濾鍍液,去除顆粒雜質(zhì)。
3. 補(bǔ)充水至規(guī)定體積。測(cè)定pH值并用氨水調(diào)整至5.35–5.40。
4. 新配制的鍍液在投入生產(chǎn)之前須經(jīng)預(yù)電解去除化工原料中所含的銅、鉛、銻等重金屬雜質(zhì)元素。預(yù)電解在0.3–
四、槽液維護(hù):
1. pH值的控制
鋅鎳合金電鍍的適宜pH值在5.35–5.65范圍內(nèi)。PH≤5.2,鍍層呈麻點(diǎn)狀;PH≤5.3,鍍層光亮性差。隨著電鍍的進(jìn)行,鍍液的pH值緩慢的上升,用鹽酸調(diào)整之。
2. Zn/Ni比的控制
鋅鎳合金電鍍的鋅含量與鎳含量之比(Zn/Ni比)不僅是決定鍍層鎳含量的主要參數(shù),也對(duì)鍍層外觀有顯著的影響,必須嚴(yán)格加以控制。該鍍液的適宜Zn/Ni比最好控制在0.7–0.9范圍內(nèi)。Zn/Ni比過(guò)高(≥1.0),當(dāng)槽液溫度較低(≤
3. 溫度控制
本工藝的操作溫度較寬(30–
4. 陰極電流密度的控制
陰極電流密度的選擇取決于鍍件形狀??偟脑瓌t是,在保證鍍層質(zhì)量的情況下采用較大的電流密度,加大鍍層沉積速度,縮短電鍍時(shí)間。掛鍍一般選擇2–
5. 補(bǔ)缸劑(添加劑C)的添加
添加劑C的消耗量為100–120 ml/K.A.hr。添加劑C過(guò)量將導(dǎo)致鍍件的高電流密度區(qū)出現(xiàn)凹凸不平及氣流狀條紋。反之,添加劑C不足則鍍層光亮性不足。
6. 鋅鎳合金電鍍的適宜氯化銨含量為220–
1. 銅事業(yè)部
4. 鋼鐵事業(yè)部
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作者: 威海云清化工開(kāi)發(fā)院
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